الرجاء كتابة 2 حروف على الأقل
الرجاء كتابة 2 حروف على الأقل
تصفح الأقسام
شنط وملحقات السفر
الجوالات و الالكترونيات
أجهزة الكمبيوتر وملحقاتها
التلفزيونات الذكية وملحقاتها
الأدوات المدرسية
ألعاب و وسائل تعليم الأطفال
الأدوات المكتبية
مستلزمات الرسم والأشغال اليدوية
الكتب العربية
الكتب الانجليزية
كتب صوتية والكترونية
ألعاب الفيديو
البطاقات الالكترونية
الالات الموسيقية
Item 1 of 1
Item 1 of 1
VDM Verlag
POLYSULFONES AS X-RAY RESISTS
229ر.س.
شامل ضريبة القيمة المضافة
13ر.س.شهرياً/24 شهر
هذا الكتاب يُطبع عند الطلب وغير قابل للاسترجاع بعد الشراء
الصيغ المتوفرة:
كتاب مطبوع
سيتم إرسال الطلب الى عنوانك
229ر.س.
شامل الضريبة
استبدال أسهل
تسوّق آمن
أصلي ومضمون
توصيل سريع
أو
عن المنتج
The microlithographic process, essential in the fabrication of microdevices, uses high-energy radiation to transfer a pattern onto a thin film of polymer resist. Pattern transfer occurs by modifying the properties (solubility or volatility) of the polymer film exposed to radiation. Poly(olefin sulfones) exhibit a high sensitivity to x-rays, which is a desirable property for polymer resists used in the microlithographic process. The potential utility of these new resins prompted a study of the mechanism of degradation promoted by x- ray radiation. In this study, the effect of x-ray radiation on polysulfones with varied chemical structures was analyzed using x-ray absorption near- edge structure (XANES) spectroscopy and in-situ mass spectroscopy (MS). Interesting differences in the mode of degradation of certain poly(olefin sulfones) was observed. The results provide important groundwork for further studies of polysulfones as x- ray resists.
أبلغ عن مشكلة مع هذا المنتج
