مكتبة جرير

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

كتاب مطبوع
وحدة البيع: EACH
76 ر.س. شهرياً /4 أشهر
المؤلف: Adeleke, Oluwatobi
تاريخ النشر: ‎2025‎‎
تصنيف الكتاب: كتب الهندسة, الكتب الانجليزية,
عدد الصفحات: 378 Pages
الصيغة: غلاف ورقي
هذا الكتاب يُطبع عند الطلب وغير قابل للاسترجاع بعد الشراء
    أو

    عن المنتج

    This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

    عرض أكثر

    مراجعات العملاء