مكتبة جرير

Machine Learning-Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

كتاب مطبوع
320ر.س.
شامل ضريبة القيمة المضافة
وحدة البيع: EACH
19ر.س.شهرياً/24 شهر
المؤلف:Adeleke, Oluwatobi
تاريخ النشر: 2025
تصنيف الكتاب:كتب الهندسة,الكتب الانجليزية,
عدد الصفحات:378 Pages
الصيغة:غلاف ورقي
هذا الكتاب يُطبع عند الطلب وغير قابل للاسترجاع بعد الشراء

الصيغ المتوفرة:

كتاب مطبوع

سيتم إرسال الطلب الى عنوانك

320ر.س.
شامل الضريبة

حدد خيار التوصيل الذي تفضله

أو

عن المنتج

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling, optimization, and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.

عرض أكثر

المواصفات

رقم الصنف9781032386737
رقم المصنع9781032386737
تاريخ النشر2025
عرض أكثر

أبلغ عن مشكلة مع هذا المنتج

مراجعات العملاء