مكتبة جرير

Intrinsic Point Defects

Impuritiesand Their Diffusion in Silicon

كتاب مطبوع
1,208ر.س.
شامل ضريبة القيمة المضافة
وحدة البيع: EACH
73ر.س.شهرياً/24 شهر
المؤلف:Pichler, Peter
تاريخ النشر: 2012
تصنيف الكتاب:كتب الهندسة,الكتب الانجليزية
عدد الصفحات:588 Pages
الصيغة:غلاف ورقي
هذا الكتاب يُطبع عند الطلب وغير قابل للاسترجاع بعد الشراء

الصيغ المتوفرة:

كتاب مطبوع

سيتم إرسال الطلب الى عنوانك

1,208ر.س.
شامل الضريبة

حدد خيار التوصيل الذي تفضله

أو

عن المنتج

Basically all properties of semiconductor devices are influenced by the distribution of point defects in their active areas. This book contains the first comprehensive review of the properties of intrinsic point defects, acceptor and donor impurities, isovalent atoms, chalcogens, and halogens in silicon, as well as of their complexes. Special emphasis is placed on compiling the structures, energetic properties, identified electrical levels and spectroscopic signatures, and the diffusion behavior from experimental and theoretical investigations. In addition, the book discusses the fundamental concepts of silicon and its defects, the electron system, diffusion, thermodynamics, and reaction kinetics which form the scientific basis needed for a thorough understanding of the text. Therefore, the book is able to provide an introduction to newcomers in this field up to a comprehensive reference for experts in process technology, solid-state physics, and simulation of semiconductor processes.
عرض أكثر

المواصفات

رقم الصنف9783709172049
رقم المصنع9783709172049
تاريخ النشر2012
عرض أكثر

أبلغ عن مشكلة مع هذا المنتج

مراجعات العملاء