مكتبة جرير

LPCVD Silicon Nitride and Oxynitride Films : Material and Applications in Integrated Circuit Technology

كتاب مطبوع
518ر.س.
شامل ضريبة القيمة المضافة
وحدة البيع: EACH
31ر.س.شهرياً/24 شهر
المؤلف:Habraken, F.H.P.M.
تاريخ النشر: 1991
تصنيف الكتاب:كتب الهندسة,الكتب الانجليزية,
عدد الصفحات:172 Pages
الصيغة:غلاف ورقي
هذا الكتاب يُطبع عند الطلب وغير قابل للاسترجاع بعد الشراء

الصيغ المتوفرة:

كتاب مطبوع

سيتم إرسال الطلب الى عنوانك

518ر.س.
شامل الضريبة

حدد خيار التوصيل الذي تفضله

أو

عن المنتج

This volume, based on work done in an ESPRIT project, gives a broad overview of the chemical and physical characteristics of silicon oxynitrides, emphasizing how they influence the electrical behavior of this material, which is important for integrated circuit technology.
عرض أكثر

المواصفات

رقم الصنف9783540539544
رقم المصنع9783540539544
تاريخ النشر1991
عرض أكثر

أبلغ عن مشكلة مع هذا المنتج

مراجعات العملاء