مكتبة جرير

Ion Implantation and Synthesis of Materials

كتاب مطبوع
604ر.س.
شامل ضريبة القيمة المضافة
وحدة البيع: EACH
36ر.س.شهرياً/24 شهر
المؤلف:Nastasi, Michael
تاريخ النشر: 2010
تصنيف الكتاب:التربية والتعليم,الكتب الانجليزية
عدد الصفحات:280 Pages
الصيغة:غلاف ورقي
هذا الكتاب يُطبع عند الطلب وغير قابل للاسترجاع بعد الشراء

الصيغ المتوفرة:

كتاب مطبوع

سيتم إرسال الطلب الى عنوانك

604ر.س.
شامل الضريبة

حدد خيار التوصيل الذي تفضله

أو

عن المنتج

General Features and Fundamental Concepts.- Particle Interactions.- Dynamics of Binary Elastic Collisions.- Cross-Section.- Ion Stopping.- Ion Range and Range Distribution.- Displacements and Radiation Damage.- Channeling.- Doping, Diffusion and Defects in Ion-Implanted Si.- Crystallization and Regrowth of Amorphous Si.- Si Slicing and Layer Transfer: Ion-Cut.- Surface Erosion During Implantation: Sputtering.- Ion-Induced Atomic Intermixing at the Interface: Ion Beam Mixing.- Application of Ion Implantation Techniques in CMOS Fabrication.- Ion implantation in CMOS Technology: Machine Challenges.
عرض أكثر

المواصفات

رقم الصنف9783642062599
رقم المصنع9783642062599
تاريخ النشر2010
عرض أكثر

أبلغ عن مشكلة مع هذا المنتج

مراجعات العملاء